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本创制悍然一种孔内电镀构制及其制制办法,其中办法包露以下步伐:正在半导体衬底上掩盖第一光阻层,并正在待制制的孔处暴光,隐影;以第一光阻层为掩膜对半导体衬底停止蚀刻,制得孔

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